TAIPEI, 7. Mai 2026 /PRNewswire/ -- Die ARBOR Technology Corp., ein weltweit führender Anbieter von Lösungen für das industrielle Internet der Dinge (IIoT) und Edge-KI-Computing, stellt die ARES-2100-Serie vor, ein ultraschlankes, lüfterloses Edge-KI-System, das mit Intel^® Core™-Prozessoren der 3. Generation (Wildcat Lake) ausgestattet ist. Entwickelt für die industrielle Automatisierung, industrielle Bildverarbeitung, ressourcenschonende Edge-KI-Inferenzaufgaben und die Bereitstellung von Smart-Factory-Anwendungen.

Hybride Edge-KI-Architektur mit hoher Effizienz

Bis zu 40 TOPS KI-Rechenleistung

Der ARES-2100 basiert auf einer hybriden Rechenarchitektur, die fortschrittliche CPU-Kerne, Intel Xe3-Grafik und Intel NPU 5.0 kombiniert, und bietet eine KI-Leistung von bis zu 40 TOPS. Seine dedizierte NPU liefert bis zu 17 TOPS für komplexe neuronale Verarbeitungsprozesse, reduziert die CPU-Auslastung und ermöglicht schnellere Inferenz mit geringer Latenz für Anwendungen wie automatisierte Inspektion und industrielle Bildverarbeitung – und das alles in einem thermisch optimierten, lüfterlosen Design.

Ultradünnes 1U-Design für Umgebungen mit begrenztem Platzangebot

Mit seinem kompakten 1U-Formfaktor und -Gehäuse eignet sich der ARES-2100 ideal für Einsätze mit begrenztem Platzangebot wie 1U-Racks, AMR-/AGV-Systeme und schmale Industriegehäuse. Ausgelegt für 24/7-Zuverlässigkeit, bietet er MIL-STD-810H-konforme Robustheit, ein sicheres Kabelverriegelungsdesign, bis zu drei 2,5-GbE-LAN-Ports, flexible M.2-Erweiterung, einen breiten 9–36-V-Gleichstromeingang, optionalen UFS-3.1-Speicher und einen Betriebsbereich von -20 °C bis 60 °C – und liefert so skalierbare, stabile Edge-KI-Leistung.

ARBOR und Intel treiben gemeinsam die Innovation im Bereich Edge-KI der nächsten Generation voran

ARBOR und Intel werden die Innovation im Bereich Edge-KI der nächsten Generation gemeinsam weiter vorantreiben und leistungsstarke, zuverlässige und zukunftsfähige Lösungen für reale Edge-KI-Anwendungen bereitstellen.

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In Thüringen ist ein großangelegtes Forschungsprojekt zur nächsten Generation der Nanostrukturierung gestartet. Wissenschaftlerinnen und Wissenschaftler der Technischen Universität Ilmenau, der Friedrich-Schiller-Universität Jena und des Fraunhofer-Instituts für Angewandte Optik und Feinmechanik (IOF) in Jena entwickeln gemeinsam eine Hochpräzisionsmaschine, die Nanostrukturen auf Flächen von bis zu einem Quadratmeter erzeugen und vermessen soll. Die geplante 3D-Nanolithographie- und Nanomessmaschine (3D-NLM) soll dabei eine Positionierungsgenauigkeit erreichen, die kleiner ist als ein Atom. Die Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) unterstützt die erste Projektphase bis 2027 im Rahmen des Programms „Neue Geräte für die Forschung“ mit vier Millionen Euro.

Mit dem Vorhaben zielt das Konsortium auf eine Größenordnung, die bestehende Anlagen deutlich übertrifft. Bisher lassen sich hochpräzise Nanostrukturen auf photonischen Bauteilen nach Angaben der Projektbeteiligten nur bis zu einem Durchmesser von etwa 30 Zentimetern zuverlässig herstellen. Die neue Anlage soll Bearbeitungen und Messungen von Bauteilen mit Kantenlängen von bis zu einem Meter ermöglichen – und damit eine mehr als dreifache Vergrößerung der nutzbaren Fläche erschließen. Die Entwicklungsarbeiten an der Maschine sind angelaufen; das Gesamtprojekt ist in drei Phasen bis 2032 angelegt.

Nanostrukturen gelten seit rund zwei Jahrzehnten als Schlüsseltechnologie, weil sie Licht gezielt beeinflussen können, indem sie dessen Wellenlänge und Ausbreitung steuern. Solche Strukturen finden sich bereits heute in großflächigen Bauteilen, etwa in Displays moderner Fernsehgeräte, die auf Nanotechnologie basieren. Nach Einschätzung der Forscherinnen und Forscher reicht die Genauigkeit bestehender industrieller Lösungen jedoch nicht aus, um künftige Anforderungen in zentralen wissenschaftlichen und technologischen Anwendungsfeldern zu erfüllen.

Die in Thüringen entstehende 3D-NLM soll genau diese Lücke adressieren. Perspektivisch könnte die Maschine zur Fertigung und Charakterisierung elektronischer und photonischer Schaltkreise ebenso eingesetzt werden wie zur Herstellung von Hochleistungsoptiken für die Erdbeobachtung. Auch in der Energieforschung sehen die Projektpartner potenzielle Einsatzfelder. Durch die Kombination aus großflächiger Bearbeitung und atomnaher Präzision erhoffen sich die Beteiligten einen technologischen Sprung, der sowohl der Grundlagenforschung als auch der Entwicklung neuer Komponenten in der Optik- und Elektronikindustrie zugutekommen könnte.